如果没有周硕的干扰,从微米工艺向微米工艺过渡的光刻机,真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。
在微米工艺及之前,光刻机光学掩膜版的制zuò要求是非常高的。基本上和生产的芯片,是一对一全比例设计。
掩膜版投射的镜头需要与硅片进行完全的接触,接触中甚至要抽成真空状态。然后光源系统的激光打到掩膜版上,投影部分的光刻胶就会被蒸发掉。把这样的晶圆放到蚀刻机里面,化学药品就会将没有覆盖光刻胶的部分腐蚀掉,然后再把晶圆转移到离子注入机上进行离子注入……
把镜头和晶圆直接接触,或者两者之间只有小缝隙的接近,这种光刻机被称之为接触、接近式曝光技术。因为使用这种技术的光刻机镜头要和晶圆进行完全的接触,对掩膜版、镜头、晶圆和光刻胶都有非常高的要求。
这种设计自有其好的一面,对镜头精度要求低,系统复杂度低,以及成像质量高之类的优点。但也有其致命的缺陷,微米工艺基本上就是其经济性的极限了。
微米工艺光刻机想要延续接触式曝光,整个系统需要的机械精密程dù,掩膜版的成本、掩膜版和硅片的接触紧密度,系统的集成难度都开始了几何级数的增加。
于是在原本的历史上,尼康也好、阿斯麦也好都选择了另一条路,那就是非接触式曝光。也就是投影式曝光技术。
这种技术说白了,就是好像平常用放大镜聚集太阳光一样。用棱镜系统将光源从远处投射到硅片上。这样经过几次聚焦、折射、再聚焦,最终投影到硅片上的图形比掩膜版甚至可以小上4倍。
对于沉浸式光刻技术而言。投影式曝光技术最大的好处就是――避免了使用防水光刻胶的高成本。
其实说起来,周硕现在真的很想哈哈大笑一下,以发泄自己内心的畅快!
日本人费尽心思弄到了防水光刻胶的技术,原本他们这个技术至少是可以吃一代光刻机没问题的。历史上,早期沉浸式光刻机系统也是使用防水光刻胶的接近式光刻机,直到投影式光刻机成为主流防水光刻胶才退出了历史舞台。
他现在拿出来的这份文jiàn,自然就是投影式光刻机的技术专利,可以说这项技术一出防水光刻胶就是一个废物了!
鹤田刚开始还不以为然,在他的心里早就已经认为泛翰集团是砧板上的鱼肉。哪里还有什么翻盘的机会?
这个年代里,日本人不仅是骄傲的,而且也非常有骄傲的资本。整个九十年代,世界十大晶圆厂,日本人占了半数还多!
在鹤田和所有日本人看来,中国人能拿出沉浸式光刻技术纯粹就是瞎猫碰死耗子,反正搞举国体制不正是共产国际的强项嘛!
除了沉浸式光刻技术这种独
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